Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Znaleziono wyników: 10
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  nanolitografia
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
1
100%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Przedstawiono stanowisko laboratoryjne do pomiarów czułości widmowej detektorów promieniowania zakresu skrajnego nadfioletu (λ= 13,5 nm). Promieniowanie to jest szczególnie istotne, gdyż stanowi perspektywę dalszego rozwoju nanolitografii. Obecnie zasadniczym zagadnieniem tej technologii są bezwzglę[...]
EN The paper presents a laboratory setup with a procedure used for measurements of detector responsivity. The responsivity is specified in the range of extreme ultraviolet radiation (wavelength of 13.5 nm). This spectrum range is an important factor determining the next step of nanolithography. The mai[...]
2
84%
Diagnostyka
2006 nr 3(39) 155-160
PL W pracy omówiono system detekcji promieniowania skrajnego nadfioletu. Umożliwia on pomiar energii impulsów promieniowania w zakresie długości fal (13,5 š 0,5) nm. Przeprowadzone analizy i badania miały na celu określenie możliwości odniesienia wyników uzyskanych w tym zakresie długości fal do pasma [...]
EN The paper presents the IOE detection system for energy measurement of EUV radiation. The system measures energy of radiation pulses within the wavelength range of (13,5 š 0,5) nm. The described analyses and experiments determine possibilities of reference of results obtained from the system to the s[...]
3
84%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL W artykule przedstawiono koncepcję stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów na potrzeby metrologii promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu EUV (ang. Extreme Ultraviolet) oraz miękkiego promieniowania X (ang. Soft X-ray). Zakres ten obejmuje promieniowanie o dług[...]
EN The paper presents a project of laboratory setup for detectors investigation applied in metrology of extreme ultraviolet and soft X-ray radiation. The main task of the work is determination both the detector responsivity and the non-uniformity of spatial responsivity. At the setup, a laser-plasma so[...]
4
84%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Przedstawiono układ detekcji promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu (13,5 nm). Układ służy do kontrolowania pracy źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową, skonstruowanego w Instytucie Optoelektroniki WAT. Składa się on z głowicy detekcyjnej oraz układu filtrów optycznych, które są umieszcz[...]
EN The paper presents a measuring system of extreme ultraviolet radiation pulses (13.5 nm). The system is used for monitoring a gas-puff laser-plasma source constructed at the Institute of Optoelectronics. The radiation source and the system are used in metrology of EUV optics. The system consists of a[...]
5
84%
Hutnik, Wiadomości Hutnicze
PL W artykule przedstawiono ideę modelowania wieloskalowego, w którym problemy makro- i mezoskalowyrozwiązywane są w tym samym czasie. Jest to możliwe poprzez równoczesne rozwiązanie równań statyki cząsteczkowej dla problemu mezoskalowego oraz sformułowania wariacyjnego Metodą Elementów Skończonych (ME[...]
EN The paper presents an idea of multiscale modelling, where macro- and mezo-scale problems are solved at the same time. It is done by simultaneous solving equations of molecular statics for mezoscale problem and variational formulation by Finite Element Method (FEM) for macroscale problem. On the inte[...]
6
84%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Ciągły rozwój technologii półprzewodnikowej powoduje wzrost skali integracji, szybkości działania układów elektronicznych oraz zmniejszenie pobieranej przez nie mocy. Obecny stan technologii opiera się głównie na technice fotolitografii i osiąga kres swoich możliwości zmniejszania charakterystycznyc[...]
EN Rapid progress in semiconductor technology leads to greater scale of integration, improved speed and a reduced amount of the needed power of the electronic devices. At the present time mainly photolithography tools are used for developing electronic devices. Now the tools are working on the edge of [...]
7
84%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Obserwowane obecnie tendencje w rozwoju systemów elektronicznych i tzw. mikrosystemów, które łączą w sobie zarówno funkcje przetwarzania sygnałów elektronicznych, jak i oddziaływań mechanicznych, chemicznych, itp. wyrażają się w znacznym zmniejszeniu tzw. wymiaru charakterystycznego do setek i dzies[...]
EN In last decades rapid progress in fabrication of integrated circuits and microsystems has been observed. Simultaneously novel problems connectec with measurements of such devices and microelectronical materials were defined. In our work we will describe the application of scanning probe microscopy b[...]
8
67%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Postęp w dziedzinie wytwarzania urządzeń półprzewodnikowych i układów scalonych wynika głównie z procesu miniaturyzacji. W wyniku miniaturyzacji wzrasta wydajność oraz zmniejsza się pobór mocy zaawansowanych przyrządów elektronicznych. W chwili obecnej technologia fotolitografii jest podstawowym nar[...]
EN Rapid progress in fabrication of the semiconductor devices and integrated circuits is mainly due to miniaturization. As a result of the miniaturization process improved performance and reduced power consumption is introduced to high- end electronic devices. At the present state mainly photolithograp[...]
9
67%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Submikrometrowe badania nanomateriałów są źródłem cennych informacji o ich unikatowych właściwościach. Jednak ze względu na często występujące niejednorodności materiałów, w zależności od lokalizacji wykonanych pomiarów, różnice między uzyskanymi wynikami mogą wynosić nawet kilkaset procent, istotni[...]
EN Submicron investigations of the nanomaterials are the source of valuable data about their unique properties. However, due to often nonhomogeneities of the materials, the results of local properties measurements may vary even few hundred percents as various areas are analyzed. Therefore one needs the[...]
10
67%
Nowa Elektrotechnika
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last