Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Stanowisko do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane

Marszałek K., Mania R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

Vol. 52, nr 8

70-72

PL

W pracy przedstawiono budowę stanowiska technologicznego przeznaczonego do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane. Do budowy stanowiska wykorzystano standardowe urządzenie próżniowe produkcji TEPRO Koszalin NA501A. Elementem z węglików spiekanych były wymienne końcówki wierteł do głębokiego wiercenia φ = 22,50. Zastosowano technologię impulsowego rozpylania magnetronowego MF (Medium Frequency) z wyrzutnią typu WMK50. Rozpylanie prowadzono z pojedynczej wyrzutni z tarczą wykonaną ze spieku TiAl. Spiek ten otrzymano stosując proces prasowania na gorąco mikroproszku otrzymanego w wyniku procesu SHS (Self-propagation High-temperature Synthesis). Proces nanoszenia prowadzono na podłoża utrzymywane w temperaturze ok. 900 K. Do uzyskania niezbędnej wartości temperatury podłoży skonstruowano stolik z elementem grzejnym wykonanym z materiałów ceramicznych na bazie węglika krzemu. Przeprowadzono obserwacje morfologii warstwy mikroskopem skaningowym oraz wykonano analizy składu chemicznego warstw. W celu oceny jakości pokrycia przeprowadzono badania adhezji.

EN

Design of the technological equipment for deposition of the (TiAl)N coatings on sintered carbide is presented. The standard vacuum evaporator NA501A produced by TEPRO Koszalin company was adopted. The covered parts were heads of drills for deep boring with diameter of φ = 22.5 mm. Pulsed magnetron sputtering MF (Medium Frequency) with WMK50 magnetron gun was used as deposition technology. Deposition was provided with single magnetron gun with sintered TiAl target. Target was produced by high temperature pressing of micropowder after SHS process. Deposition was carried out at high temperature of substrate (about 900K). For heating the substrates high temperatures table was made from ceramic materials based on silicon carbide. Scanning Electron Microscopy for morphology measurement and EDS for Chemical analysis were used. Adhesion of the coating was measured by scratch tests.

2

Wpływ zawartości gazów resztkowych na parametry pracy cyklotronu AlC-144

Sulikowski J., Guguła K., Daniel K., Sroka A., Marszałek K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2009

|

Vol. 50, nr 1

74-76

PL

Cyklotron AlC-144 znajdujący się w Instytucie Fizyki Jądrowej jest przeznaczony głównie do celów medycznych, tzn. do protonowej terapii oka [1]. Terapia wymaga wytworzenia przez cyklotron wiązki przyspieszonych protonów o stabilnych parametrach [2]. W szczególności pożądana jest stabilność wiązki protonów, powtarzalność parametrów wiązki i niezawodność pracy cyklotronu. W skład gazów resztkowych w komorze cyklotronu wchodzą: gazy przedostające się przez nieszczelności rzeczywiste komory z atmosfery otaczającej cyklotron, gazy desorbowane ze ścian komory i elementów jej wyposażenia, pary olejów pomp dyfuzyjnych i niezjonizowane gazy wypływające ze źródła jonów. W niniejszej pracy przedstawiono wpływ zawartości gazów resztkowych w komorze cyklotronu na niektóre parametry pracy cyklotronu. Przedstawiono w niej zależność czystości gazów w źródle protonów na stabilność i niezawodność pracy źródła, oraz wpływ zawartości gazów resztkowych w komorze na działanie elementów pracujących pod wysokim napięciem: układu przyspieszania i układu wyprowadzania wiązki protonów poza komorę cyklotronu [3].

EN

AlC-144 cyclotron operating in Institute of Nuclear Physics is dedicated to medical applications, mainly proton therapy of occular melanoma [1]. This type of medical treatment requires accelerated ion beam with stable parameters [2]. The most important are stability of proton beam, reproducibility of beam parameters and reliability of cyclotron work. Residual gases inside the cyclotron chamber are coming from leaks, desorption, contamination of oil diffusion pumps and ion source. The paper presents the influence of residual gases in cyclotron chamber on work parameters of the cyclotron. The discussion concerns the influence of purity of gas in proton source on stability of source parameters and residual gas content on high voltage element work: accelerating and ion beam deflecting systems [3].

3

Mikrosystemy i Sensory

Maksymowicz L., Nowak S., Leja E., Pisarkiewicz T., Stapiński T., Zakrzewska T.

Pomiary Automatyka Kontrola

|

2007

|

R. 53, nr 3

63-69

PL

Prezentowana praca zawiera wybrane zagadnienia naukowe związane z rozwijaną od lat tematyką w Katedrze Elektroniki dotyczącą mikrosystemów i sensorów. Autorzy odnieśli się do szczegółowych zagadnień takich jak: półprzewodnikowe sensory gazu, zmodyfikowane struktury multikrystalicznego krzemu jako detektor światła, cienkowarstwowe magnetyczne złącza tunelowe i ich zastosowania. Opisano również opracowywane technologie i konstrukcje urządzeń próżniowych do wytwarzania cienkich warstw i układów wielowarstwowych. Zaprezentowano przykładowe zastosowania techniki sensorowej i radiowej identyfikacji obiektów RFID w sektorze energetycznym. Przedstawiono zastosowanie dwóch zaawansowanych technologii ceramicznych - współwypalanych folii ceramicznych LTCC oraz warstw grubych fotoformowalnych do wytworzenia elementów składowych mikrosystemu ceramicznego dla chromatografii - mikrokanału oraz płomieniowego detektora jonizacyjnego.

EN

The work deals with scientific problems connected with microsystems and sensor technology developed in Department of Electronics. The authors present their achievements such as semiconductor gas sensors, microcrystalline silicon light detectors, thin film magnetic tunnel junctions and their applications. Some vacuum systems for films and multilayers depositions were also designed and constructed by our scientific staff. The sensor and radio frequency identification (RFID) applications were also described. Two advanced ceramic technologies (photoimageable thick films and LTCC) has been successfully combined to obtain microfluidic structures - the microchannel and the flame ionisation detector which are intended to use in a simple, portable ceramic microsystem for chromatography.