Elektrokrystalizacja i elektroutlenianie dwuskładnikowego stopu Co-Mo : wpływ stałego pola magnetycznego na kinetykę procesów

• Autorzy: Zieliński M. , Miękoś E. , Leniart A.
• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

elektrokrystalizacja; elektroutlenianie; kobalt; molibden; stop Co-Mo

EN

electrocrystallization; electrooxidation; cobalt; molybdenum; co-mo alloy

• Wydawca: Roble Sp. z o.o.
• Czasopismo: LAB Laboratoria, Aparatura, Badania
• Rocznik: 2006
• Tom: R. 11, nr 6
• Strony: 12--16
• Opis fizyczny: Bibliogr. 25 poz.

Twórcy

autor

Zieliński M.

autor

Miękoś E.

autor

Leniart A.

• Katedra Chemii Ogólnej i Nieorganicznej Wydziału Fizyki i Chemii Uniwersytetu Łódzkiego,

Bibliografia

• [1] Praca zbiorowa, Poradnik galwanotechnika, Wydawnictwo Naukowo-Techniczne, Warszawa, 2002.
• [2] J. Socha, J.A. Weber, Podstawy elektrolitycznego osadzania stopów metali, Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa, 2001.
• [3] J. Socha, T. Żak, S. Safarzyński, Powłoki Ochronne 6, (1978)1,6-14.
• [4] Patent polski nr 61826.
• [5] Patent polski nr 70948.
• [6] J. Socha, T. Żak, S. Safarzyński, Powłoki Ochronne 6, (1978)4,2-9.
• [7] J. Socha, T.Żak, S.Safarzyński, Metalloberflasche 34, (1979)10, 423-427.
• [8] H.S. Myers, The Electrodeposition of Molybdenum. Ph. D. Dissertation. Columbia University 1941.
• [9] J. Socha, Pokrycia stykowe, Konf. Nauk.-Techn., Bydgoszcz, 1972.
• [10] J. Francyk, T. Żołnierczyk, Powłoki Ochronne 7(1979)5,59-65.
• [11] T. Żak, J. Socha, S. Safarzyński, Powłoki Ochronne 7(1979)4/5,2-10.
• [12] J. Socha, T. Żak, S. Safarzyński, Metalloberflasche 34, (1979)12,540-545.
• [13] J. Lampe, E. Gazicka, Praca niepublikowana (1979).
• [14] E.Gomez, E. Pellicer, E. Valles, J. Electroanal.Chem. 517:109, (2001).
• [15] E. Gomez, E. Pellicer, E. Valles, J. Electroanal.Chem. 556:137, (2003).
• [16] E. Gomez, E. Pellicer, X. Alcobe, E. Valles, J. Solid State Electrochem., 8,497-504(2004).
• [17] A. Bund, S. Koehler, H.H. Kuehnlein, W. Plieth, ElectrochimicaActa 49(2003)147-152.
• [18] H. Matsushima, Y. Fukunaka, Y. Ito, A. Bund, W. Plieth, Journal of Electroanalytical Chemistry 587 (2006)93-98.
• [19] C. O'Reilly, G. Hinds, J.M.D. Coey, Journal of The Electrochemical Society, 148(10) C674-C678 (2001).
• [20] A. Krause, M. Uhlemann, A. Gebert, L. Schultz, Electrochimica Acta 49 (2004) 4127-4134.
• [21] M. Uhlemann, A. Krause, J.P. Chopart, A. Gebert, Journal of The Electrochemical Society 152(12) C817-C826 (2005).
• [22] J. Tabakovic, S. Riemer, M. Sun, V.A. Vaśko, MI. Kief, Journal of The Electrochemical Society 152(12) C851-C860 (2005).
• [23] J. Tabakovic, S. Riemer, V.A. Vaśko, V. Sapozhnikov, MI. Kief, Journal of The Electrochemical Society 150(9) C635-C640 (2003).
• [24] M. Zieliński, Thesis, University of Lodź (2001).
• [25] R. Resnick, D. Halliday, Fizyka, PWN, Warszawa (1999).