Implantacja jonów w technologii półprzewodników III-V. Cz. 2

• Autorzy: Synowiec Z.

Warianty tytułu

EN

Ion implantation in III-V semiconductor technology. Part 2

• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

implantacja jonów; półprzewodniki; technologia; izolacja

EN

ion implantation; semiconductors; technology; isolation

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2001
• Tom: Vol. 42, nr 12
• Strony: 6--8

Twórcy

autor

Synowiec Z.

• Instytut Techniki Mikrosystemów, Politechnika Wrocławska, Wrocław

Uwagi

Literatura i streszczenie artykułu w języku polskim i angielskim zostały zamieszczone w nr 11/2001.