Dynamika plazmy impulsowej w koaksjalnym akceleratorze IPD o elektrodach cylindrycznych i prętowych

• Autorzy: Rabiński M. , Zdunek K.

Warianty tytułu

EN

Studies of plasma dynamics in the IPD coaxial accelerator with tubular and squirrel cage type electrodes

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono badania struktury i dynamiki warstwy prądowej w koaksjalnym akceleratorze plazmy IPD, używanym w inżynierii powierzchni do nakładania cienkich powłok. W procesie IPD plazma jest wytwarzana w trakcie silnoprądowego i wysokonapięciowego wyładowania w komorze próżniowej. Zwykle stosowany jest układ współosiowych elektrod złożony z centralnego pręta i rurowej elektrody zewnętrznej, odizolowanych od siebie izolatorem ceramicznym. Zbadano również rozwiązanie z zewnętrzną elektrodą złożoną ze stalowych prętów. Wykazano istnienie istotnych różnic w dynamice plazmy i składach fazowych pokryć uzyskanych podczas procesu IPD z obu rodzajami elektrod.

EN

The paper presents recent studies of a current sheet structure, as well as its dynamics, in a plasma accelerator used in the surface engineering for impulse plasma deposition (IPD). During the IPD process plasma is generated in the working gas due to a high-voltage high-current pulse discharge, ignited within an interelectrode region. Usually an internal rod and external tube, which are insulated from one another by a ceramic insulator, constitute the electrode system. In the present work the outer electrode has had the form of a squirrel cage composed of stainless steel rods, fixed symmetrically around the inner electrode. It has been found that described modifications introduce significant change in plasma dynamics and in a phase composition of the coatings.

Słowa kluczowe

PL

inżynieria powierzchni; plazma impulsowa

EN

surface engineering; pulsed plasma

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 6
• Strony: 19--21
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., il.

Twórcy

autor

Rabiński M.

• Instytut Problemów Jądrowych, Zakład Fizyki i Technologii Plazmy, Otwock-Świerk

autor

Zdunek K.

• Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej

Bibliografia

• 1. Sokołowski M.: J. Cryst. Growth 1981; 54: 519-522.
• 2. Sokołowski M., Sokołowska A.: J. Cryst. Growth 1982; 57: 185-188.
• 3. Sokołowska A., Zdunek K., Grigoriew H., Romanowski Z.: J Mater Sci 1986; 21: 763.
• 4. Rabiński M., Zdunek K.: Vacuum 1997; 48: 715-718.
• 5. Rabiński M., Zdunek K.: Elektronika (XLIV) 2003; 11: 33-34.
• 6. Baranowski J., Jakubowski L., Rabiński M., Zdunek K.: Czech. J. Phys. 2002; 52: D118-D193.
• 7. Rabiński M., Zdunek K.: Surf. Coat. Technol 1999; 116-119: 679-684.
• 8. Rabiński M., Zdunek K.: Surf. Coat. Technol. 2003; 173-174: 964-967.
• 9. Tomaszewski K., Paduch M., Kaczmarczyk J.: J. Tech. Phys. 1999, 40: 375.
• 10. Zdunek K., Rabiński M.: Elektronika (XLII) 2001; 7: 38-39.
• 11. Zdunek K.: IPD - Plazma impulsowa w inżynierii powierzchni. OW PW, Warszawa 2004.