PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Audio frequency glow discharge - new prospects for deposition of thin films of plasma glasses from organic precursors

Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
A new type of reactor for plasma chemical vapour deposition from organic precursors, activated by audio frequency, is presented. It was found that ion bombardment process and plasma chemical processes are completely separated in the system and they can be idenpendently controlled. This feature makes it possible to produce two types of twin films, namely amorphous insulators (a-I) and amorphous semiconductors (a-S), using the same original compound and a continuous deposition process. The type of deposited material can be selected by only small changes of a coupling capacitance in the system. It seems that the reactor offers new possibilities for thin film technology consisting in preparation of novel class of layer structures formed from twin films of a-I and a-S.
Twórcy
  • Centre of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Academy of Sciences, Sienkiewicza 112, 90-363 Łódź, Poland
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPP1-0006-0016
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.