PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Wykorzystanie reaktywnego trawienia jonowego płytek szafirowych dla potrzeb biologii molekularnej.

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Use of reactive ion etching of saphire substrates in the molecular biology.
Konferencja
II Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Nowe Technologie w Inżynierii Powierzchni", Łódź-Spała, 12-14 października 2000
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W pracy przedstawiono możliwości reaktywnego trawienia jonowego podłóż szafirowych w celu uzyskania struktur powierzchniowych przy użyciu maski z fotorezystu. Wyniki uzyskane w procesie reaktywnego trawienia jonowego wskazują, że dla głębokości ok. 10 mikrometrów można uzyskać bardzo wysoką anizotropię procesu.
EN
A potential of reactive ion etching of saphire substrates in order to generate pattern using a photoresist mask is presented. The results show that it is possible to etch channels as deep on 10 micrometers with a high degree of anisotropy.
Rocznik
Strony
411--413
Opis fizyczny
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
  • Politechnika Łódzka, Wydział Mechaniczny
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BOS1-0011-0020
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.